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Extrusion reduction in imprint lithography
专利权人:
Niyaz Khusnatdinov;Dwayne L. LaBrake;Christopher Ellis Jones;Joseph G. Perez;Ian Matthew McMackin
发明人:
Niyaz Khusnatdinov,Christopher Ellis Jones,Joseph G. Perez,Dwayne L. LaBrake,Ian Matthew McMackin
申请号:
US13743772
公开号:
US08641958B2
申请日:
2013.01.17
申请国别(地区):
US
年份:
2014
代理人:
摘要:
Devices positioned between an energy source and an imprint lithography template may block exposure of energy to portions of polymerizable material dispensed on a substrate. Portions of the polymerizable material that are blocked from the energy may remain fluid, while the remaining polymerizable material is solidified.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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