The present invention relates to a massage device comprising at least one rotating member (2) for supporting at least one rigid pin (5), the pin projecting from a rotating member, In the device (1), the pin is associated with at least one outer circumferential cushion (6) having an outer surface intended to contact the application body surface, the cushion being such that the cushion has a maximum thickness and is somewhat perceptible A rest position in which the cushion has a reduced thickness and which can be resiliently deformed between a compression position that allows the pin to apply significant pressure to the application body surface (1) according to the present invention.본 발명은, 적어도 하나의 강성 핀(5)을 지지하는 적어도 하나의 회전 부재(2)를 포함하되, 상기 핀은 회전 부재에서 돌출되는 것인, 사용자의 신체 표면에 가압되도록 의도된 마사지 및 미용 기기(1)에 있어서, 상기 핀은 적용 신체 표면과 접촉하도록 의도된 외표면을 구비한 적어도 하나의 외주 쿠션(6)과 연관되되, 상기 쿠션은, 쿠션이 최대 두께를 가지며 다소 지각할 수 없게 되는 시점까지 사용자의 신체 표면에 대한 핀의 압력을 완충하는 휴지 위치와, 쿠션이 감소된 두께를 가지며 핀이 적용 신체 표면에 상당한 압력을 인가할 수 있게 하는 압축 위치 사이에서 탄성 변형될 수 있는 것을 특징으로 하는 기기(1)에 관한 것이다.
