一种射源装置及放射治疗系统
- 专利权人:
- 西安大医集团股份有限公司
- 发明人:
- 李大梁,吴中华,陈方正
- 申请号：
- CN202020386954.1
- 公开号：
- CN212466850U
- 申请日:
- 2020.03.24
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2021
- 代理人:
- 摘要：
- 本申请实施例提供一种射源装置及放射治疗系统，所述射源装置包括：载源体、准直体以及第一屏蔽体，所述载源体包括碗状部、沿径向凸出于所述碗状部的端面的边沿部以及设置在所述载源体局部区域的多个放射源，所述载源体与所述准直体配合控制所述射源装置发射放射线，所述第一屏蔽体设置在所述载源体上且与所述多个放射源对应的位置，用于对所述多个放射源发射的放射线进行第一屏蔽处理。本申请实施例中，通过在所述载源体上且与所述多个放射源对应的位置设置所述第一屏蔽体，实现对所述多个放射源发射的放射线进行第一屏蔽处理，从而降低了屏蔽设计的难度。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
