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血液透析治療現場で発生するガス・粉塵の処理方法および処理装置
专利权人:
NIPRO CORP
发明人:
HOSOO YUKIO,細尾 幸男,KAMOSHITA YOICHI,鴨下 洋一,NAKAMURA SHOTA,中村 将太
申请号:
JP2011095611
公开号:
JP2012223468A
申请日:
2011.04.22
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method and device for treating, in hemodialysis treatment, a trace of gas generated inside a device used for hemodialysis treatment such as a hemodialysis apparatus or a dialysate preparation device, and dust scattered to the treatment environment.SOLUTION: The device comprises a water supply line 2 including an aspirator 1 and an on-off valve V1 a suction line 3 including an on-off valve V2 and a discharge line 4 including an on-off valve V3. A cleaning water supply line 5 including an on-off valve V4 is branched from the water supply line 2 on the upstream side of the on-off valve V1, and connected to a portion adjacent to the on-off valve 2 on the downstream side of the on-off valve V2 on the suction line 3. Cleaning lines 61, 62 including on-off valves V5, V6 respectively are branched from the cleaning water supply line 5.COPYRIGHT: (C)2013,JPO&INPIT【課題】血液透析治療に際し、血液透析装置や透析液調製装置等、血液透析治療に使用する装置の内部に発生する微量なガスや、その治療環境に飛散した粉塵を処理するための方法、および処理装置を提供する。【解決手段】アスピレータ1と開閉弁V1を備えた給水ライン2と、開閉弁V2を備えた吸引ライン3と、開閉弁V3を備えた排出ライン4とを含んでなり、給水ライン2には開閉弁V1の上流側で開閉弁V4を有する洗浄水供給ライン5が分岐され、吸引ライン3上の開閉弁V2の下流側でこの開閉弁V2に近接する部分に接続されている。また、この洗浄水供給ライン5にはそれぞれ開閉弁V5、V6を備えた洗浄ライン61、62が分岐されている。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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