您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

antimicrobial ionomeerikoostumus and its application
专利权人:
АРГЕНЛАБ ГЛОБАЛ ЛТД
发明人:
Мякі Маркус,Ніємінєн Йюрі,Лааксонєн Харрі,Арєва Самі
申请号:
UAA201402814
公开号:
UA112195C2
申请日:
2012.08.22
申请国别(地区):
UA
年份:
2016
代理人:
摘要:
The invention concerns a polymeric antimicrobial composition, a method of producing the same and the uses thereof. The ionomer composition comprises an amine functional polymer compound reacted with silver halide, optionally together with a stabilizing component, such as an organic substance carrying a sulfonamide functional group. The ionomer composition can be obtained by reacting together (i) at least one polyamine and silver halide and optionally at least one organic stabilizer substance or; (ii) at least one polyamine, at least one non-halide silver salt or silver complex, hydrogen halide and/or alkaline metal halide salt and optionally at least one organic stabilizer substance. The present ionomer composition is suitable for use as an antimicrobial coating, antimicrobial finish, antimicrobial additive and as antimicrobial component for formation of new antimicrobial materials.Винахід належить до полімерної протимікробної композиції, способу її виробництва і застосування. Іономірна композиція включає амінофункціональну полімерну сполуку, піддану реакції з галогенідом срібла, необов'язково разом із стабілізуючим компонентом, таким як органічна речовина, що містить сульфамідну функціональну групу. Іономірна композиція може бути отримана спільною реакцією і) поліетиленіміну і галогеніду срібла і, необов'язково, щонайменше однієї органічної стабілізуючої речовини, або іі) поліетиленіміну, щонайменше однієї негалогенідної солі срібла або комплексу срібла, галогеноводню та/або галогенідною сіллю лужного металу і необов'язково, щонайменше однієї органічної стабілізуючої речовини. Представлена іономірна композиція підходить для застосування як протимікробне покриття, протимікробна обробка, протимікробна добавка і протимікробний компонент для отримання нових протимікробних матеріалів.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充