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処置システムおよび処置システムの制御方法
专利权人:
OLYMPUS MEDICAL SYSTEMS CORP.
发明人:
HONDA Yoshitaka,本田吉隆,入澤隆志,田中一恵,高見禎嘉
申请号:
JPJP2012/079369
公开号:
WO2013/088890A1
申请日:
2012.11.13
申请国别(地区):
WO
年份:
2013
代理人:
摘要:
A treatment system (10) is equipped with: a high-frequency power source (73) a heat-generating power source (83) a pair of jaws (36a, 36b) having a pair of conductors (52a, 52b) and a heater member (53) and a control unit (94) which controls the temperature of the heat-generating power source (83) to be at a fixed temperature on the basis of the temperature of the heater member (53) and uses a heat-generating power parameter based on the initial changes of the heat-generating power characterized by increasing after the application of thermal energy begins and by reducing after reaching a maximum value in order to acquire a power reduction pattern for predicting the changes in the heat-generating power thereafter, and which controls the pattern of the heat-generating power source on the basis of the power reduction pattern after acquiring same.Linvention porte sur un système de traitement (10) qui comporte : une source dénergie haute fréquence (73) une source dénergie générant de la chaleur (83) une paire de mâchoires (36a, 36b) ayant une paire de conducteurs (52a, 52b) et un élément chauffant (53) et une unité de commande (94) qui commande la température de la source dénergie générant de la chaleur (83) de façon à être à une température fixe sur la base de la température de lélément chauffant (53) et qui utilise un paramètre de puissance de génération de chaleur basé sur les changements initiaux de la puissance de génération de chaleur, et lequel système est caractérisé par une augmentation après que lapplication dénergie thermique a commencé et par une réduction après latteinte dune valeur maximale de façon à acquérir un motif de réduction de puissance pour prédire les changements de la puissance de génération de chaleur par la suite, et commandant le motif de la source dénergie de génération de chaleur sur la base du motif de réduction de puissance après lacquisition de celui-ci.処置システム10は、 高周波電源73と、発熱用電源83と、一対の導電体52a、52bとヒーター部材53とを有する一対のジョー36a、36bと、発熱用電源83をヒーター
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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