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一种清洁护肤基质及其制备方法
专利权人:
重庆领道科技有限公司
发明人:
王心宇,李志中,胡自兴
申请号:
CN201510178149.3
公开号:
CN104739673A
申请日:
2015.04.15
申请国别(地区):
CN
年份:
2015
代理人:
摘要:
本发明提供了一种清洁护肤基质及其制备方法,清洁护肤基质以质量分数计,包括以下组分:月桂酸8~13%、硬脂酸6~10%、棕榈酸6~10%、肉豆蔻酸3~6%、第一乳化剂1~4%、第二乳化剂1~3%;第一保湿剂10~15%、pH调节剂1~3%、第二保湿剂6~10.5%、第一增稠剂1.25~2.35%、螯合剂0.02~0.15%;第一表面活性剂6~11%、第二表面活性剂1.0~3.25%、第三表面活性剂0.85~2.25%和第四表面活性剂1.02~2.35%;第二增稠剂0.82~1.54%;余量为水。清洁护肤基质在上述组分及组分含量下具有较好温和性;其具有良好的清洁效果,低泡,良好的稳定性。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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