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インプラント
专利权人:
NOMURA PLATING CO LTD
发明人:
ISHIHATA HIROSHI,石幡 浩志,SHIMAUCHI HIDETOSHI,島内 英俊,SATO HIDEAKI,佐藤 秀明,YOSHIKAWA RYOTA,吉川 亮太
申请号:
JP2016104622
公开号:
JP2017209303A
申请日:
2016.05.25
申请国别(地区):
JP
年份:
2017
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a dental implant in which an intraoral biofilm is less likely to be formed, and thereby the occurrence of periodontal pathogenic bacteria and the occurrence of implant periodontitis can be suppressed.SOLUTION: In a dental implant made by pure titanium, an intraoral exposed part is the implant coated by DLC of a film thickness of 0.05-2 μm in which the hardness is from 15 GPa to 50 GPa and substantially the hydrogen is not contained. A chromium membrane with a thickness of 0.2 μm or less is disposed as an intermediate layer between the implant made by the pure titanium and the DLC film.SELECTED DRAWING: Figure 1COPYRIGHT: (C)2018,JPO&INPIT【課題】口腔内バイオフィルムが形成しにくく、それにより歯周病原生細菌の発生およびインプラント歯周炎の発生を抑制できる歯科用インプラントを提供する。【解決手段】純チタン製歯科用インプラントにおいて、その口腔内露出部が、硬度が15GPaから50GPaで実質的に水素を含有しない膜厚0.05~2μmのDLCで被覆されたインプラント。純チタン製インプラントとDLC膜の中間層として厚み0.2μm以下のクロミウム膜を配した。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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