能够适形下面的形状的处理制品
- 专利权人:
- 宝洁公司
- 发明人:
- 宫本美和,大西一行,R·W·洛基,宫本幸一
- 申请号：
- CN200580038692.8
- 公开号：
- CN101056604B
- 申请日:
- 2005.11.11
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2013
- 代理人:
- 摘要：
- 提供了能够适形于其下面的形状的处理制品以及它们的使用方法。所述制品包括水不溶性基底，所述基底具有至少一个伸长区，其中伸长区的至少一部分被递增拉伸。所述制品也包括优选递送护肤活性物质的处理组合物。本发明的优选制品包括面部处理面膜。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
