PROBLEM TO BE SOLVED: To provide compositions of preventing scattering of residues after nail or skin polishing, the compositions having an excellent effect of preventing scattering even if the composition has been stored in standing conditions for several weeks, and allowing to be applied on the nail or skin uniformly.SOLUTION: A composition of preventing scattering of residues after nail or skin polishing contains at least alcohol, water, alcohol insoluble and water soluble polysaccharide, carboxyvinyl polymer, and hydroxypropylcellulose, characterized by that the mass ratio of the carboxyvinyl polymer and the hydroxypropylcellulose is 1:4-1:6.SELECTED DRAWING: NoneCOPYRIGHT: (C)2017,JPO&INPIT【課題】数週間にわたって静置した状態で保存した該組成物であっても良好な飛散防止効果を有し、かつ爪または皮膚上に均一に塗布することが可能な爪または皮膚の研磨カス飛散防止組成物を提供する。【解決手段】少なくともアルコール、水、アルコールに非溶解性でかつ水溶性の多糖類、カルボキシビニルポリマー、およびヒドロキシプロピルセルロースを含有し、かつ、該カルボキシビニルポリマーと該ヒドロキシプロピルセルロースの質量比が1:4~1:6であることを特徴とする、爪または皮膚の研磨カス飛散防止組成物。【選択図】なし
