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서브스턴스 P를 함유하는 피부손상회복 또는 피부장벽개선용 조성물
专利权人:
BIOSOLUTION CO.; LTD.
发明人:
LEE, SU HYON,이수현,JUNG, HAENG SUN,정행선,KIM, SEOL YEONG,김설영,KIM, HYE SOO,김혜수,CHANG, JI HAE,장지혜
申请号:
KR1020150108416
公开号:
KR1020170014679A
申请日:
2015.07.31
申请国别(地区):
KR
年份:
2017
代理人:
摘要:
The present invention relates to a composition for the recovery of damaged skin or the improvement of a skin barrier and, more specifically, to a composition for the recovery of damaged skin or the improvement of a skin barrier comprising substance P (SP) as an active ingredient. The composition comprising SP as an active ingredient promotes cell proliferation, increases cell migration abilities, and reduces the amount of water evaporation in sclerite, thereby enabling the recovery of damaged skin or the improvement of a skin barrier.본 발명은 피부손상회복 또는 피부장벽개선용 조성물에 관한 것으로, 더욱 구체적으로는 서브스턴스 P(Substance P)를 유효성분으로 함유하는 피부손상회복 또는 피부장벽개선용 조성물에 관한 것 이다.본 발명에 따르면, 서브스턴스 P(Substance P, SP)를 유효성분으로 함유하는 조성물의 경우, 세포증식을 촉진하고 세포 이주능을 증가시킬 뿐만 아니라 경피수분증발량을 감소시킴으로써 피부손상회복 또는 피부장벽개선을 할 수 있다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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