Für die Bestrahlung von Oberflächen wird ein Strahler (1) mit einem Sockel (8) vorgeschlagen, wobei der Sockel mindestens eine Gasöffnung (12) für die Zufuhr eines Prozessgases in einen dem Strahlergefäß (2, 3, 5) benachbarten Raumbereich aufweist. Dadurch kann auf eine separate Gaszufuhrvorrichtung verzichtet werden. Optional kann auch das Strahlergefäß (2, 3, 5) eine tunnelartige Durchgangsöffnung (3) für die Zu- oder Abfuhr von Prozessgas aufweisen.For the treatment of surfaces is a radiator (1) with a base (8) is proposed, wherein the base at least one gas opening (12) for the supply of a process gas into a the emitter vessel (2, 3, 5) comprises adjacent region of space. Thereby a separate gas supply device can be dispensed with. Optionally, also the emitter vessel (2, 3, 5) a tunnel-like passage opening (3) for the removal of process gas to - have.
