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PROCESO AVANZADO DE OXIDACION PARA LA REDUCCION MICROBIANA.
专利权人:
HARPC SOLUTIONS INC.
发明人:
Paul MOYER,Mark VANDERVEEN
申请号:
MX2019002707
公开号:
MX2019002707A
申请日:
2017.07.06
申请国别(地区):
MX
年份:
2019
代理人:
摘要:
Disclosed is system for inactivating bacteria and/or reducing microbial count on product, in particular a food product, susceptible to microbial presence, said system comprising a processing chamber which is operably connected to i) a means for generating UV-C light, ii) a means for generating hydrogen peroxide vapor and/or means for generating ozone, and iii) a heat source. Also disclosed is a method for inactivating bacteria and/or reducing microbial count on a product, in particular food product, which is susceptible to microbial presence, said method comprising subjecting said product in a processing chamber to exposure with ultraviolet C (UV-C) light and hydrogen peroxide vapor and/or ozone, and heat, for a processing time of between 5-120 seconds, wherein the hydrogen peroxide vapor is present at up to 12% v/v solution, and the temperature inside the processing chamber is maintained between about 22°C and 60°C.Se describe un sistema para inactivar bacterias y/o reducir la cuenta microbiana en el producto, en particular un producto alimenticio, susceptible a la presencia microbiana, dicho sistema que comprende una cámara de procesamiento que está conectado de manera operativa a i) un medio para generar luz UV-C, ii) un medio para generar vapor de peróxido de hidrógeno y/o medios para generar ozono, y iii) una fuente de calor. También se describe un método para inactivar bacterias y/o reducir la cuenta microbiana en un producto, en particular un producto alimenticio, que es susceptible a la presencia microbiana, dicho método que comprende someter dicho producto en una cámara de procesamiento a la exposición con luz ultravioleta C (UV-C) y vapor de peróxido de hidrógeno y/u ozono, y calor, para un tiempo de procesamiento de entre 5-120 segundos, en donde el vapor de peróxido de hidrógeno está presente en solución hasta 12% v/v, y la temperatura dentro de la cámara de procesamiento se mantiene entre aproximadamente 22°C y 60°C.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
相关发明人
mark vanderveen
paul moyer
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意 见 箱

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