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水処理装置及びこれに用いる導電性多孔質炭素材料
专利权人:
株式会社日立製作所
发明人:
山口 欣秀,山田 泰子
申请号:
JP20160563492
公开号:
JPWO2017149633(A1)
申请日:
2016.03.01
申请国别(地区):
日本
年份:
2018
代理人:
摘要:
高い水処理効率を維持できる水処理装置及びこれに用いる導電性多孔質炭素材料を提供する。導電体により形成されるアノード20と、気体の拡散異方性を有する導電性多孔質炭素材料により形成されるカソード30とを、イオン輸送能を有するイオン輸送膜80を介して近接させて配置した水処理装置100である。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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