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磁気共鳴イメージング装置及びRFパルス調整方法
专利权人:
株式会社日立メディコ
发明人:
倉谷 厚志,上田 泰声
申请号:
JP2010531915
公开号:
JPWO2010038847A1
申请日:
2009.10.02
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
A setting step for more detail, it is shorter gain adjustment of the radiation pulses, sets the irradiation gain of the RF pulses to be irradiated to a subject placed in a static magnetic field, the RF pulses of the radiation gain set Each was obtained with the RF pulse irradiation step of irradiating the specimen, a receiving step of obtaining the echo signal which the subject is generated, and the repeating step of repeating several times the steps by changing the radiation gain, the RF pulses of different radiation gain and a, and a radiation gain determination step of determining a radiation gain on the basis of the echo signal corresponding to the flip angle desired for RF pulses, the irradiation step, the slice selection position for radiating RF pulses of at least two different irradiation gain I made different subject on.照射パルスのゲイン調整をより詳細に、より短く行うために、静磁場中に配置された被検体に照射するRFパルスの照射ゲインを設定する設定ステップと、設定された照射ゲインのRFパルスを被検体に照射するRFパルス照射ステップと、被検体が発生するエコー信号を取得する受信ステップと、照射ゲインを変えて各ステップを複数回繰り返す繰り返しステップと、照射ゲインの異なるRFパルスにより取得された各エコー信号に基づいて、RFパルスについての所望のフリップ角に対応する照射ゲインを求める照射ゲイン決定ステップと、を有し、照射ステップは、照射ゲインの異なる少なくとも2つのRFパルスを照射するスライス選択位置を被検体上で異ならせる。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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