Interspinous implants including a spacer configured to fit between first and second adjacent spinous processes of a human spine, to maintain a minimum separation between the spinous processes. An implant also includes a fixation portion coupled to the spacer, in which the fixation portion engages at least one spinous process to hold the spacer in a stable position relative to the spinous process. An implant may be monolithic, non-fillable, and may be inserted between the spinous process from a lateral approach. The fixation portion may be configured as a bracket which can substantially encircle the spinous process, or as flanges which engage lateral sides of the spinous process(es). The spacer may be resilient, and may be expandable along the anterior/posterior direction between the spinous processes. An implant may provide resilient resistance during extension, and/or a uniform extension stop between the spinous processes.Linvention concerne des implants interépineux comprenant un espaceur configuré de façon à sajuster entre une première et une seconde apophyse épineuse de colonne vertébrale humaine, afin de maintenir une séparation minimum entre ces apophyses épineuses. Un implant comprend aussi une partie fixation couplée à lespaceur, dans lequel cette partie fixation entre en contact avec au moins une hypophyse épineuse pour tenir lespaceur en position stable par rapport à lapophyse épineuse. Un implant peut-être monolithique, non chargeable et peut être inséré entre lapophyse épineuse par une approche latérale. La partie fixation peut-être configurée sous forme de support qui peut sensiblement encercler lapophyse épineuse, ou sous forme de collerette qui entre en contact avec les côtés latéraux de ou des apophyses épineuses. Lespaceur peut être élastique, et peut-être extensible le long de la direction antérieure/postérieure entre les apophyses épineuses. Un implant peut offrir une résistance élastique durant lextension, et/ou un arrêt dextension uniforme entre
