T2造影剂及其制备方法和用途
- 专利权人:
- 中国科学院化学研究所
- 发明人:
- 王春儒,卢志高,甄明明
- 申请号：
- CN201610802400.3
- 公开号：
- CN107789635A
- 申请日:
- 2016.09.05
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开了一种T2造影剂及其制备方法和用途,所述T2造影剂包括钆基纳米材料和二氧化硅层,其中二氧化硅层包覆在所述钆基纳米材料的至少一部分外表面。该T2造影剂具有良好的水溶性和生物相容性,且该T2造影剂尤其适合用来在高场下观察病灶部位的精细结构,造影效果优异。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
