An implant fixture (1) of the present invention comprises an upper and lower dual hybrid outer surface treated by: blasting alumina, titanium oxide, calcium oxide and the like at a high pressure at an outer lower portion of the fixture (1) so as to have a surface roughness of 1.5-3.0 μm dipping the entire outer surface of the fixture (1) of which the lower portion was blasted, into an etchant comprising hydrochloric acid, sulfuric acid, and water so as to have a surface roughness of 0.2-1.0 μm, thereby allowing a surface upper section (Ua) to have a surface roughness of 0.2-1.0 μm from the upper end of the fixture (1) to a downward position of 2.5 mm and allowing a lower section (La) below the upper section (Ua) of the fixture (1) to have a surface roughness of 1.5-3.0 μm by blasting and a surface roughness of 0.2-1.0 μm by etching.La présente invention concerne un implant (1) comprenant une surface externe hybride double supérieure et inférieure traitée en : projetant de lalumine, de loxyde de titane, de loxyde de calcium et similaires à haute pression sur une partie extérieure inférieure de limplant (1) afin dobtenir une rugosité de surface de 1,5 à 3,0 μm immergeant la surface extérieure entière de limplant (1) dont la partie inférieure à reçu la projection, dans un agent dattaque chimique comprenant de lacide chlorhydrique, de lacide sulfurique et de leau afin dobtenir une rugosité de surface de 0,2 à 1,0 μm, ce qui permet dobtenir une surface de section supérieure (Ua) ayant une rugosité de 0,2 à 1,0 μm depuis une extrémité supérieure de limplant (1) à 2,5 mm plus bas et en ayant une rugosité de surface de la section inférieure (La) en dessous de la section supérieure (Ua) de limplant (1) de 1,5 à 3,0 μm par projection et une rugosité de surface de 0,2 à 1,0 μm par attaque chimique..본 발명의 임플란트용 픽스츄어(1)는 외측 하부에 알루미나, 산화티타늄, 산화칼슘 등을 고압으로 분사시키는 블라스팅으로 표면조도가 1.5~3.0㎛가 되도록 구성하고, 하부에 블라스팅을 행한 픽스츄어(1) 외부 표면 전체를 염산, 황산, 물을 혼합한 에칭용액에 침전시켜서 표면조도가 0.2~1.0㎛가 되도록 구성하여 픽스츄
