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HIGH MOISTURIZING AND MILD COSMETIC COMPOSITION FOR WASHING
专利权人:
주식회사 코리아나화장품
发明人:
이상락,이광식,이건국
申请号:
KR1020140138366
公开号:
KR1016875990000B1
申请日:
2014.10.14
申请国别(地区):
KR
年份:
2016
代理人:
摘要:
More particularly, the present invention relates to a cosmetic composition for cleansing, and more particularly, to a cosmetic composition for cleansing, which comprises an anionic surfactant, which is a skin stimulant, And to a cosmetic composition for cleaning a mousse type two-layered high moisture and low-magnetic two-layered structure having excellent foamability, cleansing power and moisturizing power including fatty acids. The present invention relates to a two-layered mousse type cleansing cosmetic composition comprising a water component, an oil component and a detergent component, wherein the water component comprises a solvent, a moisturizer, a metal blocker and a pH adjusting agent, Or more of a fatty acid and an oil component, wherein the detergent phase component comprises an amphoteric surfactant and an anionic surfactant other than a sulfate series.본 발명은 세정용 화장료 조성물에 관한 것으로, 상세하게는 일반 페이스트 타입의 폼을 사용하였을시 문제가 되는 건조함을 제거하면서 피부 자극 유발 물질인 설페이트 계열의 음이온 계면활성제를 포함하지 않으면서 오일 성분과 지방산을 포함하여 기포력과 세정력, 보습력이 우수한 고 보습 저 자극 이층상의 무스타입 세정용 화장료 조성물에 관한 것이다. 본 발명은 수상 성분, 유상 성분 및 세제상 성분을 포함하는 이층상의 무스 타입의 세정용 화장료 조성물로서, 상기 수상 성분은 용매, 보습제, 금속 봉쇄제 및 pH조절제를 포함하고, 상기 유상 성분은 1종 이상의 지방산, 오일 성분을 포함하고, 상기 세제상 성분은 양쪽성 계면활성제와 설페이트 계열을 제외한 음이온 계면활성제를 포함하는 세정용 화장료 조성물을 제공한다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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