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XDI分子印迹固相萃取柱填充材料的制备方法
- 专利权人:
- 邵秋荣
- 发明人:
- 邵秋荣,方邢有,孟昭建,李天宝
- 申请号：
- CN201710205457.X
- 公开号：
- CN107051403A
- 申请日:
- 2017.03.31
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及食品接触材料检测安全领域，具体涉及间苯二甲基异氰酸酯(简称XDI）分子印迹固相萃取柱填充材料的制备方法。将反应原料模板分子XDI、甲基丙烯酸、交联剂EGDMA加入到致孔剂乙酸乙酯中，混合均匀后，再加入引发剂过氧化二苯甲酰。模板分子：功能单体：交联剂摩尔比为1：（4～6）：（40～60）经脱气、充氮后，密封，40～80℃温度下反应20～48hr，得粗的分子印迹聚合物：将此聚合物研磨到粒度35～80μm，用甲醇，乙酸和水的混合溶剂进行索氏提取，再用乙腈反复清洗去除甲醇和乙酸，至中性为止。最后再用丙酮反复沉降，以除去细小的颗粒，得到XDI分子印迹固相萃取柱填充材料。此分子印迹固相萃取柱检测能简便、高效、专一的分离与富集XDI。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
