Thomas Copitzky,Berthold Altmann,Florian Michl,Christian Hafer
申请号：
DE102018204689
公开号：
DE102018204689A1
申请日:
2018.03.27
申请国别(地区):
DE
年份:
2019
代理人:
摘要：
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Erzeugen eines Plasma-Dampf-Gemisches (4) aus einer Flüssigkeit (3a) oder einem Gas (3b), wobei die Flüssigkeit (3a) oder das Gas (3b) bereitgestellt und die Flüssigkeit (3a) bzw. das Gas (3b) ionisiert werden. Falls die Flüssigkeit (3a) bereitgestellt wurde, wird die ionisierte Flüssigkeit (4a) zum Plasma-Dampfgemisch (4) verdampft. Falls das Gas (3b) bereitgestellt wurde, wird das ionisierte Gas (4b) mit einer Flüssigkeit zu einem Gas-Flüssigkeits-Gemisch durchmischt und anschließend dieses Gas-Flüssigkeits-Gemisch zum Plasma-Dampf-Gemisch (4) verdampft.The invention relates to a method for producing a plasma-vapor mixture (4) from a liquid (3a) or a gas (3b), wherein the liquid (3a) or the gas (3b) provided and the liquid (3a) or the gas (3b) is ionized. If the liquid (3a) has been provided, the ionized liquid (4a) is evaporated to the plasma vapor mixture (4). If the gas (3b) has been provided, the ionized gas (4b) is mixed with a liquid to form a gas-liquid mixture, and then this gas-liquid mixture is evaporated to the plasma-vapor mixture (4).
