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TSLP Oligonucleotides down-regulating the expression of TSLP and the composites for cosmetic or pharmaceutical
专利权人:
주식회사 레모넥스; CHEOL HEE;LEMONEX INC.;WON, CHEOL HEE;원철희;WON
发明人:
WON, CHEOL HEE,원철희,WON, CHEOL HEEKR
申请号:
KR1020170024877
公开号:
KR1020170029449A
申请日:
2017.02.24
申请国别(地区):
KR
年份:
2017
代理人:
摘要:
The present invention relates to a use of siRNA oligonucleotide, dsRNA oligonucleotide, antisense RNA oligonucleotide inhibiting the expression of human TSLP for a cosmetic and/or a pharmaceutical purpose, and to a composition comprising the same. An atopic dermatitis mitigating/treating agent, containing oligonucleotide of the present invention, not only has superior effects of mitigating and treating symptoms of atopic dermatitis, but also stably penetrates the composition in an effective concentration, without stimulation by using porous particles and/or cationic particles when applied to the skin.본 발명은 인간 TSLP의 발현을 억제하는 siRNA 올리고뉴클레오타이드, dsRNA 올리고뉴클레오타이드, 안티센스 RNA 올리고뉴클레오타이드의 미용 및/또는 약학제적 목적을 위한 이의 용도 및 이를 포함하는 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 올리고뉴클레오타이드를 함유하는 아토피 개선제/치료제는 아토피 증상 개선효과 및 치료 효과가 우수할 뿐만 아니라, 이를 피부에 적용할 때 다공성 입자 및/또는 양이온성 입자를 사용할 경우 자극 없이, 효과 높은 농도로 안정하고 침투시키는 효능이 있다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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