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アブレーション中の電力及び灌流の同時制御
专利权人:
バイオセンス・ウエブスター・(イスラエル)・リミテッド
发明人:
アサフ・ゴバリ,アンドレス・クラウディオ・アルトマン,エラ・オゼリ,イスラエル・ジルバーマン
申请号:
JP2018045098
公开号:
JP2018149301A
申请日:
2018.03.13
申请国别(地区):
JP
年份:
2018
代理人:
摘要:
Control the parameters used during ablation performed by the device.A device comprising a probe adapted to insert and contact the myocardium and an electrode attached to the probe. The temperature sensor incorporated in the probe is configured to output a temperature signal. The pump bypasses the heart by a perfusion fluid at a controllable rate via a probe, and the high frequency (RF) signal generator applies the RF power to the heart muscle through the electrode to relieve the heart muscle.The apparatus also has a processing circuit, and the processing circuit measures the temperature of the probe based on the temperature signal while applying RF power and reduces the measured temperature to a preset target temperature when the measured temperature exceeds a preset target temperature Until now, the RF power applied by the signal generator is repeatedly reduced and at the same time the pumping speed of the pump fluid supplied by the pump is repetitively changed.Diagram【課題】 デバイスによって実施されるアブレーションの間に使用されるパラメータを制御すること。【解決手段】 挿入して心筋と接触させるように構成されたプローブと、プローブに取り付けた電極とから構成される装置。プローブ内に組み込まれた温度センサは、温度信号を出力するように構成されている。ポンプは、プローブを介して、制御可能な速度で灌流流体により心筋を灌流し、高周波(RF)信号発生器は、心筋をアブレーションするために電極を介して心筋にRF電力を印加する。装置は、処理回路も有し、処理回路は、RF電力を印加している間に、温度信号に基づき、プローブの温度を測定し、測定した温度が予め設定した標的温度を超える場合、測定した温度が予め設定した標的温度まで低減するまで、信号発生器によって印加したRF電力を反復的に低減し、同時に、ポンプによって供給した灌流流体の灌流速度を反復的に変更する。【選択図】 図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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