A manufacturing method of sputtering target using tooth ash powder and a surface reform method of dental implant using the same are provided to reduce dental treatment time by improving assimilability with bones and biocompatibility. The manufacturing method of sputtering target using tooth ash powder includes the steps of: manufacturing a compaction body with a crushing device from a pulled out tooth； and making a sputtering target by burning the compacted tooth. The surface reform method of dental implant using sputtering target using tooth ash powder includes the steps of making a sputtering target by using a pulled out tooth, and applying tooth ash powder on the surface of a dental implant by using a sputtering deposition method.본 발명은 치과용 임플란트의 표면개질방법에 있어서,발거된 치아를 이용하여 스퍼터링용 타겟을 제조하는 단계와, 치과용 임플란트의 표면에 스퍼터링증착법을 이용해 치아회분말이 코팅되도록 하는 단계로 이루어진 치아회분말을 이용한 치과용 임플란트 표면개질방법에 관한 것으로, 본 발명은 발거된 치아를 이용하여 치과용 임플란트의 표면에 치아회분말이 코팅되도록 함으로써 골과의 융합성과 생체적합성을 좋게 하여 치과시술시간을 단축할 수 있으며, 내식성을 강화하여 치과용 임플란트를 구강 내에 영구히 매식할 수 있는 매우 유용한 발명인 것이다.
