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牙科底涂剂制剂
- 专利权人:
- 义获嘉伟瓦登特公司
- 发明人:
- D·卡特尔,T·伯克,U·萨尔兹
- 申请号：
- CN201480014369.6
- 公开号：
- CN105188639A
- 申请日:
- 2014.02.19
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2015
- 代理人:
- 摘要：
- 底涂剂制剂，其包含(1)至少一种通式R1nSi(OR2)4-n(I)的烷氧基硅烷单体，其中R1代表有机残基，其包含至少一个烯键式不饱和的可聚合基团，R2代表C1-C8烷基有机残基和n为1、2或3，其中所述残基R1和R2可以各自相同或不同；(2)至少一种通式(R9)+(Hx-1Fx)-z(II)的聚氢氟酸盐，其中R9代表来自一系列碱金属、碱土金属或过渡金属的金属阳离子或代表式(R5)(R6)(R7)(R8)N+的铵离子，其中R5、R6、R7和R8各自彼此独立地代表H或C1-至C12-烷基、C3-至C12-烯基-或C6-C12-芳基残基，其中R5、R6、R7和R8可以相同或不同，并且其中这些残基中的两个可以结合在一起以与氮原子形成杂环，和其中所述残基中的三个与氮原子可以一起形成吡啶鎓离子，x是2至5，优选为2至4，特别是3的整数，z相当于阳离子残基R9的化合价，(3)有机溶剂，和(4)水。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
