一种用于疮面的药物纳米雾化与局部氧疗装置
- 专利权人:
- 彭争荣
- 发明人:
- 彭争荣,王素娥,肖平田,祖映翔
- 申请号：
- CN201620383692.7
- 公开号：
- CN206026812U
- 申请日:
- 2016.04.29
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 本实用新型涉及医疗设备技术领域，尤其涉及一种用于疮面的药物纳米雾化与局部氧疗装置。本实用新型的药物纳米雾化与局部氧疗装置中，气囊的一端可粘附于患者的疮面周围，且气囊内设有雾化区；输氧系统与气囊连通，用于为疮面供排氧气；药物雾化系统并联连通在输氧系统上，在输氧系统内的氧气带动下为疮面提供雾化后的药物纳米颗粒；微电子控制系统分别与气囊、输氧系统和药物雾化系统连接，用于分别监控氧气和雾化后的药物的流量和压力。该药物纳米雾化与局部氧疗装置能将药物治疗与局部氧疗相结合，将药物雾化成纳米大小的颗粒直达疮面，同时利用局部氧疗促进疮面愈合。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
