Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Behandlung von Prozessgasen in einem durch elektromagnetische Wellen angeregten Plasma, umfassend eine Plasmakammer, die mit einem Dielektrikum ausgekleidet ist, einen Generator zur Erzeugung der elektromagnetischen Wellen und eine Hohlleiteranordnung zur Zuführung der elektromagnetischen Wellen in die Plasmakammer, wobei die Hohlleiteranordnung wenigstens zwei, jeweils eine E-Feld-Hohlleiterverzweigung aufweisende Einspeisungsstellen zur Einspeisung der elektromagnetischen Wellen als fortlaufende Wellen in das Dielektrikum aufweist.The invention relates to a device for the treatment of process gases in a by means of electromagnetic waves excited plasma, comprising a plasma chamber, which is lined with a dielectric, a generator for the production of the electromagnetic waves and a waveguide arrangement of the invention for the supply of the electromagnetic waves in the plasma chamber, wherein the waveguide arrangement of the invention at least two, in each case a e - field - junction zone, which feed points for feeding of the electromagnetic waves in the dielectric as a continuous waves has.
