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对混浊媒质的成像
- 专利权人:
- 皇家飞利浦电子股份有限公司
- 发明人:
- R·齐格勒,T·尼尔森
- 申请号：
- CN200780047167.1
- 公开号：
- CN101563026B
- 申请日:
- 2007.12.12
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2012
- 代理人:
- 摘要：
- 一种用于对混浊媒质成像的成像系统包括照射所要成像的对象的辐射源。探测系统探测来自对象的辐射并且包括区分具有各个波长范围的辐射成分的分离模块。分析模块形成各个辐射成分的比较结果。根据各个辐射成分的比较结果重建图像数据集。该比较例如包括(i)高波长辐射成分与低波长辐射成分的水平之比，或者(ii)高波长辐射成分与探测到的辐射的水平的相对差，或者(iiii)高波长辐射成分与低波长辐射成分的水平的相对差。当在相应的造影剂浓度范围上该比较结果相对于其他波长范围更有益于其中一个波长范围时，获得了重建图像的良好对比度。因此，在比较中，波长范围之间的竞争使得该一个波长范围的强度(或者光子数)占优，使得该一个波长范围中的任何对比度不会受到对比度反转的影响。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
