Techniques described herein generally relate to a surface analysis device. Using electromagnetic energy, the surface analysis device may optically determine a three-dimensional (3D) map of a sample surface with a computation imaging system, and, based on the 3D map, calculate a correction factor corresponding to each of multiple light sources, where each light source is associated with one or more specific wavelength bands. The apparatus may then illuminate the sample surface with each of the multiple light sources, modify the measured reflectivity of the sample surface when illuminated with each light source using the corresponding correction factor, and construct a spectral response profile of the sample surface.La présente invention décrit des techniques qui portent généralement sur un dispositif d'analyse de surface. Au moyen de l'énergie électromagnétique, le dispositif d'analyse de surface peut déterminer optiquement une carte tridimensionnelle (3D) d'une surface d'un échantillon grâce à un système imageur de calcul, et, sur la base de la carte 3D, calculer un facteur de correction correspondant à chaque source parmi des sources de lumière multiples, chaque source de lumière étant associée à une ou plusieurs bandes de longueurs d'onde spécifiques. L'appareil peut alors éclairer la surface de l'échantillon avec chacune des sources de lumière multiples, modifier la réflectivité mesurée de la surface de l'échantillon lorsqu'elle est éclairée par chaque source de lumière au moyen du facteur de correction correspondant, et construire un profil de réponse spectral de la surface de l'échantillon.
