OCTREOTIDE DEPOT FORMULATION WITH CONSTANTLY HIGH EXPOSURE LEVELS

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专利权人:

노파르티스 아게

发明人:

알헤임, 마르쿠스,페테르센, 홀게르

申请号：

KR1020117016340

公开号：

KR1017085170000B1

申请日:

2009.12.14

申请国别(地区):

KR

年份:

2017

代理人:

摘要：

The present invention relates to a sustained release formulation comprising octreotide as the active ingredient or a pharmaceutically acceptable salt thereof and two different linear polylactide-co-glycolide polymers (PLGA).본 발명은 활성 성분으로서의 옥트레오티드 또는 그의 제약상 허용되는 염, 및 2종의 상이한 선형 폴리락티드-코-글리콜리드 중합체 (PLGA)를 포함하는 서방형 제제에 관한 것이다.

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/