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化学液体注入装置
专利权人:
株式会社根本杏林堂
发明人:
根本茂,斋藤刚
申请号:
CN201880038643.1
公开号:
CN110753562A
申请日:
2018.11.04
申请国别(地区):
CN
年份:
2020
代理人:
摘要:
本发明提供可以容易地设置与要摄像的区域和目的相对应的各种注入条件的化学液体注入装置。化学液体注入装置(100)包括:两个活塞驱动机构(130a、130b),用于分别操作填充有第一化学液体和第二化学液体的注射器;输入单元(503),用于接收数据的输入;以及注入控制单元(101),用于控制活塞驱动机构(130a、130b)的操作。注入控制单元(101)设置有按多个注入阶段进行注入操作的多段注入模式。在多段注入模式中,注入控制单元(101)被配置为:针对多个注入阶段中的各注入阶段,接收第一化学液体和第二化学液体的混合比例的输入;设置第一化学液体和第二化学液体的注入条件,使得按所接收到的混合比例注入第一化学液体和第二化学液体;以及根据所设置的注入条件来控制驱动机构(130a、130b)的操作。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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