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X射线机曝光控制方法、装置及电子设备
专利权人:
深海精密科技(深圳)有限公司
发明人:
吴元,颜继永,卓有恒
申请号:
CN201810547885.5
公开号:
CN108968993A
申请日:
2018.05.31
申请国别(地区):
CN
年份:
2018
代理人:
摘要:
本发明涉及医疗器械技术领域,尤其涉及一种X射线机曝光控制方法、装置及电子设备。该方法包括:获取正常曝光参数;获取所述X射线机的曝光距离,所述曝光距离为X射线源的焦点与所述X射线机的成像器件的距离;判断所述X射线机的当前的曝光模式是否是低剂量曝光模式;若是,根据所述正常曝光参数和所述曝光距离查找预设的低剂量技术表,以获取与所述正常曝光参数对应的低剂量曝光参数;采用所述低剂量曝光参数控制所述X射线机进行曝光。该实施方式能够在不增加设备成本的基础上降低X射线剂量。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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