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凍結乾燥処理の際の脱水工程の制御装置及び方法
专利权人:
アデイクセン・バキユーム・プロダクト
发明人:
ケタン パテル,ディディエ ピエールジャン,シリル ノミーヌ,オーレリー シャプロン
申请号:
JP2012550475
公开号:
JP2013518242A
申请日:
2011.02.01
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
This minimizes SOLVED] inactivation, to produce a substrate that maintains the activity more parts. And a and a control device for dewatering step between the [SOLUTION] lyophilized, the lyophilized housing 1 connected to a vacuum line and a gas analyzer for analyzing the gas contained in the enclosure. Is coupled to the generator 15 which may be used to generate a plasma from a gas, a gas ionization system 8 having a plasma source 13 in contact with the gas, is placed in close proximity to the plasma generation region, the gas analyzer, emitted from the plasma I and a gas analysis system comprising a radiation sensor 17 that is connected to a device 18 for analyzing the change in the emission spectrum that is, to analyze the ionized gas. The apparatus also includes means 16 for driving and stopping repeatedly plasma source 13. The apparatus further includes an optical port 25 which is disposed between the freeze-drying enclosure 1 a gas ionization system 8. Method of controlling dehydration step during the freeze-drying process is adapted to select the state in which the plasma source 13 is driven, the state of being stopped plasma source 13. [Selection] Figure Figure 1【課題】不活性化を最小にし、より多くの活性部分を維持した基質を生成する。【解決手段】凍結乾燥処理の間の脱水工程の制御装置であって、減圧ラインに接続される凍結乾燥筐体1と、筐体に含まれるガスを分析するガス分析装置とを備えている。ガス分析装置は、ガスからプラズマを発生させることができる発生器15に結合され、ガスと接触するプラズマ源13を有するガスイオン化システム8と、プラズマの発生領域に近接して配置され、プラズマから放出される放射スペクトルの変化を分析する機器18に接続される放射センサ17を有し、イオン化されたガスを分析するガス分析システムとを備えている。また、装置は、プラズマ源13を繰り返し駆動および停止させる手段16を備えている。この装置は、さらに、ガスイオン化システム8と凍結乾燥筐体1との間に配置された光学ポート25を備えている。凍結乾燥処理の間の脱水工程の制御方法は、プラズマ源13が駆動されている状態と、プラズマ源13が停止されている状態とを選択するようになっている。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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