Ein Verfahren zur Herstellung einer Schnittstelleneinheit (14) sowie eine Gruppe solcher Schnittstelleneinheiten werden angegeben. Die Schnittstelleneinheit weist eine erste Referenzfläche (35) zum Einstrahlen von Strahlung (28), eine zweite Referenzfläche (42) zur Abgabe der Strahlung und eine in Richtung von der ersten zur zweiten Referenzfläche verlaufende Achse (47) auf. Das Herstellungsverfahren umfasst die Schritte des Einstellens einer optischen Weglänge der Schnittstelleneinheit zwischen der ersten und der zweiten Referenzfläche entlang der Achse und das Fixieren der eingestellten optischen Weglänge der Schnittstelleneinheit. Die optische Weglänge der Schnittstelleneinheit wird so eingestellt, dass an der ersten Referenzfläche eingestrahlte Strahlung einer bestimmten numerischen Apertur (NA) eine bezüglich der zweiten Referenzfläche in Richtung der Achse vorgegebene Fokuslage (44) aufweist. Eine präzise und einheitliche Fokuslage bezüglich der zweiten Referenzfläche wird erreicht.The invention relates to a method for producing an interface unit (14) and to a group of such interface units. The interface unit (14) comprises a first reference surface (35) for capturing radiation (28), a second reference surface (42) for emitting radiation and an axis (47) extending in the direction from the first to the second reference surface. The production method comprises the following steps: setting an optical path length of the interface unit between the first and the second reference surfaces along the axis and fixing the set optical path length of the interface unit. The optical path length of the interface unit is set in such a manner that the radiation of a specific numerical aperture (NA), which is directed on the first reference surface, has a focus position (44) which is predefined relative to the second reference surface in the direction of the axis. In this way, a precise and uniform focus position relative to the second reference surface is achieved.Linvention
