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FLUID APPLICATOR SYSTEM
专利权人:
OTSUKA AMERICA PHARMACEUTICAL; INC.
发明人:
LEWKOWICZ, HENRY L.,亨利 陆科威兹,亨利 陸科威茲,VANEK, PATRICK P.,派屈克 法尼克,派屈克 法尼克
申请号:
TW094140345
公开号:
TWI424863B
申请日:
2005.11.16
申请国别(地区):
TW
年份:
2014
代理人:
摘要:
A fluid applicator system comprises an applicator device for applying a topical antiseptic fluid to an area of a subject’s skin, and a storage device. The applicator device may include a handle with a proximate end and a distal end. A base may be coupled to the proximate end of the handle, and a substantially hydrophilic foam may be coupled to the base. An end piece may be coupled to the distal end of the handle, and at least one abrasion layer may be coupled to the substantially hydrophilic foam. The storage device may include a wall and a bottom surface that defines a chamber therebetween. The endpiece of the applicator device may be configured to engage with the wall of the storage device to form a seal that substantially prevents contaminants from entering the chamber when the applicator device is inserted into the chamber.本發明提供一種塗抹器系統,其包含一用於將局部消毒流體塗抹至個體皮膚之一區域的塗抹器裝置及一貯存裝置。該塗抹器裝置包含一手柄,其包括一近端和一遠端;一底部,其係連結到該手柄的近端;及一經連結到該底部的實質親水性發泡體;一端片,其係連結到該手柄的遠端;及經連結到該實質親水性發泡體的至少一擦磨層(abrasion layer)。該貯存裝置包含一壁和一底表面,界定於彼等間之一室。該塗抹器裝置之端片經構型成與該貯存裝置之該壁咬合以形成一密封墊,以於當插入該塗抹器裝置至該室時實質地防止污染物進入該室。10‧‧‧塗抹器裝置12‧‧‧遠端100‧‧‧手柄102‧‧‧底部107‧‧‧開口109‧‧‧第一彎曲110‧‧‧角111‧‧‧第二彎曲112‧‧‧實質親水性發泡體114‧‧‧擦磨層
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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