PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a therapeutical treatment apparatus for which an apparatus and control are simplified and costs are lowered.SOLUTION: The resistance value of a resistance pattern of a heat generation chip at the start of heating treatment is acquired (step S202), and is stored as R0 (step S203). Power P0 is applied to the resistance pattern until the time tm (step S204 to step S207). The resistance value of the resistance pattern at the time tm is defined as Rm (step S208), a variable β is acquired by Rm/R0, and time-power relation according to β is extracted from a list stored in a storage part (step S209). Power P according to the time-power relation P=f(β, t) is supplied to the resistance pattern to the treatment time top (step S210 to step S214). Since the power P=f(β, t) to be supplied thereafter is determined on the basis of the resistance value of the resistance pattern dependant on a temperature when the power P0 is supplied, sufficient temperature control is performed at a low cost without the need of providing a temperature sensor or the like.COPYRIGHT: (C)2013,JPO&INPIT【課題】装置及び制御を単純化して低コスト化した治療用処置装置を提供する。【解決手段】加熱処置開始時の発熱チップの抵抗パターンの抵抗値を取得し(ステップS202)、R0として記憶する(ステップS203)。時刻tmまで電力P0を抵抗パターンに印加する(ステップS204乃至ステップS207)。時刻tmにおける抵抗パターンの抵抗値をRmとし(ステップS208)、Rm/R0より変数βを取得してβに応じた時刻-電力関係を記憶部に記憶されたリストから抽出する(ステップS209)。処置時間topまで時刻-電力関係P=f(β,t)に従った電力Pを抵抗パターンに投入する(ステップS210乃至ステップS214)。電力P0投入時の温度に依存する抵抗パターンの抵抗値に基づいて、その後に投入する電力P=f(β,t)を決定するので、温度センサ等を設ける必要なく低コストに十分な温度制御を実現できる。【選択図】図9
