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一种用于高中生足部清洁放松的水浴装置
专利权人:
绍兴鲁迅中学
发明人:
潘欣雨
申请号:
CN202010512741.3
公开号:
CN111631942A
申请日:
2020.06.08
申请国别(地区):
CN
年份:
2020
代理人:
摘要:
本发明公开了一种用于高中生足部清洁放松的水浴装置,涉及水浴装置技术领域。该用于高中生足部清洁放松的水浴装置,包括盆体,所述盆体左右两侧的顶部均开设有凹口,且盆体的顶部设置有水浴机构,盆体内固定安装有脚底按摩机构,且盆体左侧的底部穿插有连通自身内腔的排水管,排水管位于盆体外部的一端上螺纹连接有密封盖,且盆体的内底部固定安装有电热圈。该用于高中生足部清洁放松的水浴装置,水浴机构与脚底按摩机构相配合,充分实现了对使用者足部各处的按摩效果,对于穴位较多较为敏感的脚底部分采取水流湍动冲击的方式进行按摩,这样的按摩方式较为柔和,相较于传统按摩仪不会对使用者造成较大刺激。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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