SYDLIK, Stefanie A.;LAURENCIN, Cato. T;DANESHMANDI, Leila;HOLT, Brian D.;SCHMIDT, Stephen;ARNOLD, Anne M.
发明人:
SYDLIK, Stefanie A.,ARNOLD, Anne M.,HOLT, Brian D.,LAURENCIN, Cato. T,DANESHMANDI, Leila,SCHMIDT, Stephen
申请号：
USUS2019/048376
公开号：
WO2020/046964A1
申请日:
2019.08.27
申请国别(地区):
US
年份:
2020
代理人:
摘要：
A compound includes a polysaccharide moiety and one or more chelating agents. The one or more chelating agents are covalently bonded to the polysaccharide moiety. The polysaccharide moiety can include a glycosaminoglycan moiety, such as a hyaluronic acid polymer or a sulfated glycosaminoglycan moiety. The compound can be used to treat or prevent a disease or disorder in a patient with a metal implant. The compound reduces a concentration of metal particulates or metal ions in the subject.L'invention concerne un composé qui comprend un fragment polysaccharide et un ou plusieurs agents chélatants. Le ou les agents chélatants sont liés au fragment polysaccharide par des liaisons covalentes. Le fragment polysaccharide peut inclure un fragment glycosaminoglycane, par exemple un polymère d'acide hyaluronique ou un fragment glycosaminoglycane sulfaté. Le composé peut être utilisé pour traiter ou prévenir une maladie ou un trouble chez un patient porteur d'un implant métallique. Le composé réduit la concentration de particules métalliques ou d'ions métalliques chez le sujet.
