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一种具有BMP‑2缓释复合涂层的种植体
专利权人:
大连三生科技发展有限公司
发明人:
曲哲,付雪松,张久文,蔡俊江,李闪,彭鹏
申请号:
CN201611209527.0
公开号:
CN106693053A
申请日:
2016.12.23
申请国别(地区):
CN
年份:
2017
代理人:
摘要:
本发明公开了一种具有BMP‑2缓释复合涂层的种植体。所述种植体外表面具有钛基底层,所述钛基底层外表面具有二氧化钛基层,所述二氧化钛基层的外表面涂覆有钙磷离子/BMP复合涂层。本发明通过种植体表面钛金属表面氧化、酸蚀和碱热处理对种植体外表面进行改性,提高材料表面的粗糙度和表面能,增强材料表面的活性,可以促进钙磷离子的沉积并增强涂层的结合强度,临床植入时的扭矩高于复合涂层的平均临界载荷。复合涂层中BMP‑2的载荷量高,BMP‑2全层均匀分布于钙磷离子涂层中,植入体内后,随着钙磷离子涂层表面的缓慢溶解,BMP‑2被逐步释放于周围组织中,具有缓释作用。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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