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COMPOSITION POUR RECOUVRIR ET PROTÉGER DES CICATRICES
专利权人:
SINIQ GMBH
发明人:
SCHMID, Juerg,SUPERSAXO, Andreas
申请号:
EPEP2016/058237
公开号:
WO2016/166220A1
申请日:
2016.04.14
申请国别(地区):
EP
年份:
2016
代理人:
摘要:
Subject of the invention is a composition comprising: (a) at least one film-forming polymer, which does not comprise silicon, (b) at least one organic UV filter, and (c) at least one organic solvent, wherein the composition is liquid at 20°C, wherein components (a) and (b) are dissolved in solvent (c), and wherein the ratio of the total amounts of organic UV filters (b) to film-forming polymers (a) is below 6.5. The invention also relates to compositions for therapy, uses of the composition, devices and methods.L'invention concerne une composition comprenant : (a) au moins un polymère de formation de film, qui ne comporte pas de silicium, (b) au moins un filtre UV organique, et (c) au moins un solvant organique, la composition étant liquide à 20 °C, les constituants (a) et (b) étant dissous dans le solvant (c), et le rapport des quantités totales de filtres UV organiques (b) aux polymères de formation de film (a) étant supérieur à 6,5. L'invention concerne également des compositions pour une thérapie, des utilisations de la composition, des dispositifs et des procédés.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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