Societe D Exploitation De Produits Pour Les Industries Chimiques Seppic
发明人:
申请号：
EP17154216.0
公开号：
EP3196204A1
申请日:
2014.02.04
申请国别(地区):
EP
年份:
2017
代理人:
摘要：
Composition (C 2) comprising for 100% of its mass:From 1% to 70% by weight of a polyol of formula (A 1):€ ƒ € ƒ € ƒ € ƒ € ƒ € ƒ € ƒHO-CH 2 - (CHOH) n -CH 2 -O € ƒ € ƒ € ƒ € ƒ (A 1)wherein n is an integer equal to 2, 3 or 4；From 25% to 98.9% by weight of a composition (C 1) represented by formula (I):€ ƒ € ƒ € ƒ € ƒ € ƒ € ƒ € ƒHO-CH 2 - (CHOH) n -CH 2 -O- (G) x -H € ƒ € ƒ € ƒ € ƒ € ƒ (I),In which G represents the remainder of a reducing sugar, n is an integer equal to 2, 3 or 4 and x, which indicates the average degree of polymerization of said remainder G, represents a decimal number greater than 1 and less than or equal to 5；From 0.1% to 5% by weight of a compound (B) or a mixture of compounds (B) chosen from:The compound of formula (B 11):The compound of formula (B 12):The compound of formula (B 13):And the compound of formula (B 14):Its use in cosmetics.Composition (C2) comprenant pour 100% de sa masse :- De 1 % à 70% massique d'un polyol de formule (A1) : HO-CH2-(CHOH)n-CH2-OH (A1)dans laquelle n est un nombre entier égal à 2, 3 ou 4 ；- De 25% à 98,9% massique d'une composition (C1) représentée par la formule (I) : HO-CH2-(CHOH)n-CH2-O-(G)x-H (I),Dans laquelle G représente le reste d'un sucre réducteur, n est un nombre entier égal à 2, 3 ou 4 et x, qui indique le degré moyen de polymérisation dudit reste G, représente un nombre décimal supérieur à 1 et inférieur ou égal à 5 ；- De 0,1% à 5% massique d'un composé (B) ou d'un mélange de composés (B) choisis parmi :- Le composé de formule (B11) :- Le composé de formule (B12) :- Le composé de formule (B13) :- Et le composé de formule (B14) :Son utilisation en cosmétique.
