C-2位和C-7位修饰的1-去氧巴卡亭VI紫杉烷类化合物及其制备方法
- 专利权人:
- 上海大学
- 发明人:
- 林海霞,邱卫清,袁天海,崔永梅,唐平
- 申请号：
- CN201611103984.1
- 公开号：
- CN106674243B
- 申请日:
- 2016.05.12
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2019
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及一种C‑2位和C‑7位修饰的1‑去氧巴卡亭VI紫杉烷类化合物及其制备方法。该化合物的结构是:其中R为苯甲酰基取代基,五元杂环取代基。本发明的1‑去羟基巴卡亭VI紫杉烷类似物在C‑2位将苯氧酰基改造为乙酰氧基并且在C‑7位引入各种取代基,保留紫杉烷类的环骨架和必要的官能团,丰富了该类化合物,通过初筛实验,稳定性实验,浓度梯度实验等相关数据表明部分化合物在抗炎方面比紫杉醇更好,同时也为这类化合物的活性构效关系的研究提供了宝贵的借鉴。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
