一种增强大型效应物内场强的基于介质基底结构的辐照腔
- 专利权人:
- 西北核技术研究所
- 发明人:
- 宋志敏,陈昌华,蔡利兵,杜太焦,朱湘琴
- 申请号：
- CN202110482220.2
- 公开号：
- CN113181556A
- 申请日:
- 2021.04.30
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2021
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及一种辐照腔，具体涉及一种增强大型效应物内场强的基于介质基底结构的辐照腔。克服采用现有辐照腔改进手段可行性较低的问题。本发明在辐照腔中放置了具有特定相对介电常数的绝缘介质基底，并在绝缘介质基底上刻上特定形状和尺寸的凹槽、然后再填上特定形状及尺寸的金属材质，实现了大型非金属效应物内部的场强增强，从而完成了辐照腔结构的改进。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
