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一种祛痘洗面奶
专利权人:
刘勇
发明人:
刘勇
申请号:
CN201510828100.8
公开号:
CN105380815A
申请日:
2015.11.24
申请国别(地区):
CN
年份:
2016
代理人:
摘要:
本发明公开了一种祛痘洗面奶,由以下各组分的原料组成:硬脂酸1-4份,十四酸15-25份,十二酸3-5份,单烷基磷酸酯3-8份,85%氢氧化钾3-8份,双甘油20-30份,月桂氨基二丙酸钠2-6份,甘草酸二钾0.05-0.15份,三氯新0.1-0.5份,尼泊金甲酯0.05-0.15份,去离子水90-110份。本发明提供的洗面奶能够对皮肤起到很好的清洁作用,同时还具有很好的祛痘、祛印、保湿的优点,便于推广应用。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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