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STRAHLENTHERAPIEGERÄT SOWIE VERFAHREN ZUM ERZEUGEN EINER AUFLÖSUNGSERHÖHUNG BEI EINGESTRAHLTEN BESTRAHLUNGSFELDERN
专利权人:
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT
发明人:
HEID, OLIVER
申请号:
EP11702975.1
公开号:
EP2516006A1
申请日:
2011.02.02
申请国别(地区):
EP
年份:
2012
代理人:
摘要:
Die Erfindung betrifft ein Strahlentherapiegerät, aufweisend: - eine Strahlenquelle, von der aus ein Strahl zur Bestrahlung auf ein Zielvolumen aus zumindest zwei einander entgegengesetzten Richtungen richtbar ist, - einen Kollimator mit einer Vielzahl von Kollimatorelementen zum Eingrenzen des Behandlungsstrahls zum Erzeugen eines Bestrahlungsfeldes, wobei durch die Ausdehnung der Kollimatorelemente eine Auflösung des Bestrahlungsfeldes vorgegeben wird, und - eine Versatzvorrichtung, welche bewirkt, dass die Einstrahlung entgegengesetzter Bestrahlungsfelder unter einem Versatz derart erfolgt, dass die beiden entgegengesetzten Bestrahlungsfelder gegeneinander um einen Bruchteil der Auflösung zueinander versetzt sind. Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Erzeugung einer Auflösungserhöhung bei eingestrahlten Bestrahlungsfeldern bei einem Strahlentherapiegerät, - Erzeugen eines ersten Bestrahlungsfeldes mit Hilfe eines Kollimators, der einen von einer ersten Raumrichtung ausgesendeten Strahl begrenzt und der eine Vielzahl von Kollimatorelementen umfasst, die eine Auflösung des Bestrahlungsfeldes vorgeben, - Erzeugen eines zweiten Bestrahlungsfeldes mit Hilfe des Kollimators, der einen weiteren, von einer zweiten Raumrichtung ausgesendeten Strahl begrenzt, wobei das zweite Bestrahlungsfeld zu dem ersten Bestrahlungsfeld um einen Bruchteil der Auflösung zueinander versetzt ist.The invention relates to a radiation therapy device, comprising: a radiation source, from which for radiation exposure purposes a beam can be directed onto a target volume from at least two opposite directions, a collimator having a plurality of collimator elements for localising the treatment beam in order to generate a radiation-exposure field, wherein the expansion of the collimator elements predetermines a resolution of the radiation-exposure field, and an offset unit, which causes the irradiation of opposing radiation-exposure fields to be effected at an offset such that the two
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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