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VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG STRUKTURIERTER SCHICHTEN AUS TITAN UND NICKEL
专利权人:
ACANDIS GMBH & CO. KG
发明人:
SCHMUTZ, CLEMENS,QUANDT, ECKHARD,ZAMPONI, CHRISTIANE
申请号:
EP07764894.7
公开号:
EP2043552B1
申请日:
2007.06.27
申请国别(地区):
EP
年份:
2016
代理人:
摘要:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer strukturierten Metallschicht (7) aus einer Titan und Nickel umfassenden Legierung, wobei das Verfahren die folgenden Verfahrensschritte umfasst: - ein Opferschichtverbund (3) wird bereitgestellt, welcher eine auf eine erste Opferschicht (1) aufgebrachte zweite Opferschicht (2) umfasst, - eine der beiden Opferschichten (1) wird zur Strukturierung einem nasschemischen Ätzprozess derart unterzogen, dass eine Unterätzung der Opferschicht (1) auftritt, - eine Metallschicht (7) der besagten Legierung wird mittelbar oder unmittelbar auf den strukturierten Opferschichtverbund (3) aufgebracht. Dabei wird die von der Metallschicht (7) weiter entfernt liegende erste Opferschicht (1) dem nass-chemischen Ätzprozess unterzogen, und die der Metallschicht (7) zugewandte zweite Opferschicht (2) wird vor dem nass-chemischen Ätzen der ersten Opferschicht (1) einem Trocken-Ätzprozess unterzogen, wobei sie mit einer der gewünschten Struktur der Metallschicht (7) entsprechenden Struktur versehen wird. Die Erfindung betrifft ferner einen Gegenstand, insbesondere einen Stent oder ein Implantat, der mindestens eine Metallschicht (7) umfasst, die unter Anwendung des Verfahrens nach einem der vorherigen Ansprüche hergestellt ist.The invention relates to a method for the production of a structured metal layer (7) made of an alloy containing titanium and nickel, wherein the method consists of the following steps: - a sacrificial layer compound (3) is used, which comprises a second sacrificial layer (2) applied on top of a first sacrificial layer (1) – one of the two sacrificial layers (1) is used to structure a wet chemical etching method in such a way that the sacrificial layer (1) is undercut - a metal layer (7) of the above-mentioned alloy is directly or indirectly applied to the structured sacrificial layer compound (3). During this process, the first sacrificial layer (1), which is at a greater distance from the metal layer (7), is
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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