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一种负离子强磁按摩足垫
专利权人:
李国涛
发明人:
李国涛
申请号:
CN201621078536.6
公开号:
CN206062312U
申请日:
2016.09.23
申请国别(地区):
CN
年份:
2017
代理人:
摘要:
本实用新型涉及一种负离子强磁按摩足垫,包括鞋垫本体,所述鞋垫本体为足弓形状或者为平板形状,其特征在于,当为足弓形状时,所述鞋垫本体上设置有多个圆形凹槽,所述凹槽与脚底的穴位相对应,还包括多个能够卡入到所述凹槽内的按摩磁钉,所述按摩磁钉的数量与所述凹槽的数量一致;为了在不使用时该足弓垫继续具有鞋垫的功能,可以在该足弓垫上卡接一个弹性垫。本实用新型的有益效果为:该负离子强磁按摩足垫只需放入鞋内,患者穿上放置有该负离子强磁按摩足垫的鞋即可实现按摩功能,携带方便,按摩效果显著。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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