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エミッタおよび点滴灌漑用チューブ
- 专利权人:
- 株式会社エンプラス
- 发明人:
- 守越 大輔
- 申请号：
- JP20170071232
- 公开号：
- JP2018170997(A)
- 申请日:
- 2017.03.31
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】膜部材の変形量をより小さくしつつ、チューブ内の灌漑用液体の圧力によらずに吐出される灌漑用液体の量を制御することができるエミッタを提供すること。【解決手段】本発明は、前記灌漑用液体を取り入れるための取水部と、前記吐出口に面して配置され、前記灌漑用液体を吐出するための吐出部と、前記取水部および前記吐出部を繋ぐ流路と、を有するエミッタに関する。上記流路は、エミッタの内部とチューブの内部とを仕切るように配置される可撓性の第１ダイヤフラム部を含み、チューブ内の灌漑用液体の圧力に応じて、第１ダイヤフラム部が変形することにより前記灌漑用液体の流量を減少させる流量減少部と、流量減少部と前記吐出部とを繋ぐ吐出流路と、を有する。上記吐出流路は、流路径が大きい低圧流通部と流路径が小さい高
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
