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PANSEMENT DE RÉDUCTION DE CICATRICE
专利权人:
Giger; Adrian
发明人:
申请号:
EP17791740.8
公开号:
EP3518849A1
申请日:
2017.09.29
申请国别(地区):
EP
年份:
2019
代理人:
摘要:
The invention relates to an easy-to-use scar reduction bandage (or sticking plaster), that can be used in the case of hypertrophic scars and keloids. The invention offers a qualitatively even treatment over months by the permanent pressure achieved by the integrated scar bandage and spring. The effect can be strengthened or altered by the differing materials of upper and lower carrier sheets. Likewise, and at the same time, a supplemental treatment can be initiated by so-called storage structures in the base of the spring.La présente invention concerne un pansement de réduction de cicatrice facile à utiliser (ou un emplâtre collant), qui peut être utilisé dans le cas de cicatrices et de chéloïdes hypertrophiques. L'invention offre un traitement qualitativement égal au cours des mois par la pression permanente atteinte par le bandage et le ressort intégrés de cicatrisation. L'effet peut être renforcé ou modifié par les matériaux différents des feuilles supports supérieure et inférieure. De la même manière, et en même temps, un traitement supplémentaire peut être déclenché par des structures dites de stockage dans la base du ressort.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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