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頭髪洗浄組成物
专利权人:
株式会社;資生堂
发明人:
鈴木 由紀,大森 隆司,石窪 章,勅使河原 喬史,川副 智行
申请号:
JP2006320151
公开号:
JP4994011B2
申请日:
2006.11.28
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a hair-cleansing composition which gives excellent hair smoothness and excellent non-stiffness, after used and when dried, and has excellent bubbling and cleansing effects also for hair coated with styling agents.SOLUTION: This hair-cleansing composition comprises 0.01 to 15 mass% of a block type alkylene oxide derivative, 0.1 to 20 mass% of sodium cocoylmethyltaurine, and 0.1 to 15 mass% of a specific amideamine type amphoteric surfactant. The block type alkylene oxide derivative includes POB(30)POE(30) trimethylglyceryl ether.COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT【課題】使用後の乾燥時における髪のなめらかさ、ごわつきのなさに優れ、スタイリング剤を塗布した頭髪に対しても泡立ちや洗浄効果に優れた頭髪洗浄組成物の提供。【解決手段】ブロック型アルキレンオキシド誘導体0.01~15質量%と、ココイルメチルタウリンナトリウム0.1~20質量%と、特定のアミドアミン型両性界面活性剤0.1~15質量%とを含むことを特徴とする頭髪洗浄組成物。ブロック型アルキレンオキシド誘導体として、POB(30)POE(30)トリメチルグリセリルエーテルが例示される。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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